香港国际艺术展10(ART HK 10)将于5月27至30日于香港会议展览中心(香港会展)举行，大会云集了来自全球29个国家、超过150间画廊参与，展出世界顶尖艺术家的精心杰作，并将同时举办一系列精彩艺术活动，力求燃亮香港艺坛，使浓厚的艺术气息冲破会展围墙，蔓延至全港不同角落。

　　其中一项名为Stand Talks的重头活动，便诚邀了29位参展国际艺术家亲临会场，与来宾大谈创作动力及经验，提供第一手的亲身体验。艺门画廊(Pékin Fine Arts)的陈丽云(Movana Chen)、Galerie Lena Brüning的Johannes Weiss，以及代表Sullivan + Strumpf的Penny Byrne等均在名单之列。

　　由亚洲艺术文献库(Asia Art Archive)举办的官方座谈活动后室谈(Backroom Conversations)则请来了多位来自博物馆界的顶尖讲者，联袂出席参与讨论，星级与会者阵容更包括来自纽约当代艺术博物馆(MoMA)、古根海姆美术馆(Guggenheim)及东京当代美术馆(MoCA)的代表，就艺坛的最新发展发表独到见解。而享负盛名的Intelligence Squared Asia 辩论环节今年更将载誉重临，将就「一个伟大的艺术家并不需要高超的技巧」(You Don’t Need Great Skill to be a Great Artist)一题进行连番激辩，身兼「南华早报│艺术世界之未来」评委之一的Hans Ulrich Obrist 也将成为辩论的评审，令节目更锦上添花。

　　除此以外，香港国际艺术展10(ART HK 10)亦将展示各类型实验性艺术作品，配合录像及装置艺术的展览，开拓艺术作品的界限，为创作摆脱藩篱，令来宾更深体验艺术世界的奥秘。如日本艺坛新星山口典子(Noriko Yamaguchi)即为当中典范。她尝试透过身体的转化及耐力，探索科技、神话学与女性主义的领域，大胆地采用不同物料掩饰身体，势必成为艺术展重头戏之一。山口的手机女孩(Keitai Girl)演出将于5月26日晚上八时在会展三号展览厅的贵宾优先场内率先举行。